温室黄瓜栽培密度通常在3000~4000株/亩。早熟品种黄瓜一亩地可种4000~4500棵。中熟和晚熟黄瓜品种一亩密度在3000~3500株即可。可按等行距60~70厘米或大行距80厘米，小行距50厘米，于苗行处做高垄，垄高10~15厘米，垄上覆地膜，棚室的垄与沟均覆地膜进行膜下灌溉，于垄上按株距25厘米栽苗。

一般来说每亩地可以种植黄瓜2800-3500颗左右。